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更新日期:2024-03-24
簡要描述:
日本sscooling架式冷水機組ThermoRack 1201適用于等離子刻蝕和其他半導體應用的機架式冷水機組
品牌 | 其他品牌 | 產地 | 進口 |
---|---|---|---|
冷卻方式 | 水冷式 | 儀器種類 | 分體式 |
日本sscooling架式冷水機組ThermoRack 1201
1,200 瓦的冷卻能力
±0.05°C 溫度穩定性/重復性
工作溫度范圍:-10°C 至 80°C
專為非常快速的響應而設計
減少晶圓間的變化,消除晶圓效應
比基于壓縮機的冷水機組節能高達 80%
采用熱電技術,可靠性高,維護成本低
設計簡單 – 只有 2 個活動部件
消除氟利昂和其他有害制冷劑,符合新的環境法規
使用更少的設施水和昂貴的冷卻劑,如氟惰性或高登
緊湊的尺寸:多達 6 個 TR1201 系統適合 1 臺壓縮機冷水機組的空間
通信接口可用于 AMAT、LAM、TEL 和 Hitachi 系統
通用電源 – 插入即可在世界任何地方使用
等離子刻蝕、等離子灰、CMP 和其他工藝的解決方案
輔助加熱器可用于加熱65°C以上
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日本sscooling架式冷水機組ThermoRack 1201
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